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       隨著國內半導體產業迅速發展，電子氣體等材料領域亦迎來機遇，近年來相關項目正在陸續投建。日前，昊華化工科技集團股份有限公司（以下簡稱“昊華科技”）發布公告，為發展公司電子化學品產業，公司全資子公司黎明化工研究設計院有限責任公司（以下簡稱“黎明院”）擬投資建設4600噸/年特種含氟電子氣體項目。

       資料顯示，昊華科技的實際控制人為中國化工集團有限公司，主營業務為氟材料、特種氣體、特種橡塑制品、精細化學品和技術服務五大板塊。這次項目的建設主體黎明院為昊華科技旗下全資子公司，其前身黎明化工研究院是原化學工業部綜合性研究院，主營業務包括化學推進劑及原材料、聚氨酯新材料、含氟氣體材料、過氧化氫及配套原材料等4個專業板塊。

       昊華科技指出，電子氣體在半導體領域具有廣泛的應用，是半導體生產過程中的重要原料之一。近年來，隨著下游半導體、電子器件等市場的快速發展，我國電子氣體市場規模不斷增大。經過近幾年系列特種含氟電子氣體的開發與推廣，黎明院已成為國內特種含氟電子氣體的供應商之一，為了進一步完善特種含氟電子氣體產業鏈，滿足國內市場需求，黎明院計劃新建年產4600噸特種電子氣體項目。

     根據公告，4600噸/年特種含氟電子氣體項目總投資9.14億元，資金來源于黎明院自有資金與銀行貸款。項目將采用黎明院自主 研發專利技術生產特種含氟氣體總產能4600噸/年，包括3000噸/年三氟化氮、1000噸/年四氟化碳和600噸/年六氟化鎢。

      可行性分析指出，近年來中國液晶面板行業、太陽能行業以及半導體行業發展迅猛，對其支撐原材料之一的特種含氟電子氣體的需求呈直線上升趨勢，并將在未來一定時期維持上漲態勢。因此，建設特種含氟電子氣體產業化項目有良好的市場前景，原材料供應有保障，產品需求增速快，符合市場發展。

       此外，電子級三氟化氮、四氟化碳和六氟化鎢被列為《國家中長期科學和技術發展規劃綱要（2006-2020年）》中加快高新技術產業化項目以及國家“863計劃”支持鼓勵的重點新型信息用氣體材料。關鍵材料電子氣體國產化、規模化對保障國家經濟安全和增強綜合國力具有重大戰略意義。

       據了解，電子級三氟化氮主要用于電子元件的等離子蝕刻及清洗，具有優異的蝕刻速率和選擇性、對表面無污染。四氟化碳是目前半導體行業最主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。六氟化鎢在電子工業中作為金屬鎢化學氣相沉積(CVD)工藝的原材料，用它制成的WSi2可用作大規模集成電路(LSI)中的配線材料，還可用作半導體電極和導電漿糊等的原材料。

       昊華科技表示，本次投資建設的4600噸/年特種含氟電子氣體建設項目，進一步完善了特種含氟電子氣體產業鏈，能夠更好的滿足國內市場的需求，對提高企業經濟效益、抗風險能力以及增強可持續發展能力具有重要意義。項目達產后，會進一步提升公司的營業收入和凈利潤，進而會提高公司的綜合競爭力。

      目前，該項目已完成政府備案手續，環境影響評價已獲批復，職業病危害預評價已通過專家評審，昊華科技董事會亦已審議通過。